Otsing sellest blogist

UUS!!!

Fotoresist ehk fotolakk

Fotoresist  (ingl k  photoresist ) ehk fotolakk (saksa k  Fotolack ) on  polümeerne  valgustundlik materjal, mida kasutatakse  fotolitograaf...

kolmapäev, 1. juuli 2020

Maalilisejärgne abstraktsionism

Maalilisejärgne abstraktsionism


Jump to navigation Jump to search
Maalilisejärgne abstraktsionism on suuri puhtaid värvipindu kombineeriv laad maalikunstis, tekkis 1960-ndatel.
Mõiste võttis kasutusele kunstikriitik Clement Greenberg (1909–1994), propageerimaks abstraktse ekspressionismi jõulisele maalilisusele vastanduvat lineaarset ning korrastatumat abstraktsionismi, mis kasvas välja abstraktse ekspressionismi nn meditatiivsemast suunast (Mark Rothko, Barnett Newman).
Taotleti värviväljade terviklikkust, maali ühtsust ja korrapära. Peamised esindajad: Morris Louis, Kenneth Noland, Frank Stella, Ad Reinhardt, Josef Albers.

Kommentaare ei ole: