Pooljuhttehnoloogia

• Pooljuhttehnoloogia on mikroelektroonika valdkond, mis tegeleb pooljuhtseadiste, sealhulgas integraallülituste projekteerimise ja valmistamisega.

CMOS-transistori struktuuri näide (2000ndetast aastatest)

Pooljuhttehnoloogia protsessid võivad olemuselt olla nii füüsikalised kui ka keemilised. Näiteks rakendatakse keemilist pinnet (pinnakatmist), söövitust ja pinnapuhastust, aga ka füüsikalist pinnet ja puhastust, ionisatsiooni, samuti füüsikalis-keemilisi protsesse, nagu fotolitograafia ja keemilis-mehaaniline poleerimine, ning ka termilisi protsesse.

Vajalike omadustega kihtide loomiseks rakendatakse epitaksiat: aluskristallile kasvatatakse selle kristallivõret jätkav legeeritud ränikiht.

Integraallülituse põhielement on isoleeritud paisuga väljatransistor (MOSFET). Elementidevahelise isolatsioonina, samuti dioodide ning kondensaatoritena on võimalik kasutada vastupingestatud pn-siirdeid. takistitena pn-siirete takistust. Lülitus kavandatakse nii, et see ei sisaldaks suure väärtusega takisteid ega kondensaatoreid, sest need hõivaksid palju rohkem kristallipinda kui transistorid.

Pooljuhttehnoloogia põhietepidRedigeeri

Integraallülituste valmistamisel kasutatakse alusmaterjalina – substraadina – suuri, erimenetlusel kasvatatud eriti puhtaid ränimonokristalle, mis ei või sisaldada rohkem kui ühe soovimatu lisandiaatomi miljardi räniaatomi kohta. Monokristalli silindrist (läbimõõduga 5, 15 või 30 cm) saetakse kettad paksusega alla 1 mm. Ühel kettal saab korraga valmistada sajad või tuhanded integraallülitused. Lülituse elemendid ja nendevahelised ühendused valmistatakse substraadi õhukeses, vähem kui 1 μm paksuses pinnakihis ja pinnal paljude (kuni sadade) järjestikuste tehnoloogiaetappide käigus, mida tuntakse planaarprotsessina ehk planaarmenetlusena (lad k planum ’tasapind’).

Integraallülitustega ränikettad enne kiipideks lõikamist

Räniplaadi peegelsiledaks poleeritud pinnale tekitatakse termiliselt ränidioksiidist kaitsekiht. Pinnaosadelt, kuhu on vaja manustada legeerivaid lisandeid, eemaldatakse oksiid fotolitograafiat rakendades. Kõigepealt kaetakse pind polümeerse valgustundliku materjali – fotoresisti – ühtlase kihiga. Sellele asetatakse tarviliku mustriga (läbipaistvate osadega) fotošabloon ehk mask. Ultraviolettkiirgusega säritamisel tekib mustri varjatud kujutis, mille ilmutamise järel fotoresist lahustub kohtades, mida on vaja edasi töödelda, ja polümeriseerub ülejäänud pinnal, kus moodustub happekindel kaitsekiht. Kaitsmata pinnaosadelt eemaldatakse ränidioksiid teatud paksuseni söövitamise teel.

Järgneb paisustruktuuri moodustamise fotolitograafiline protsess ja seejärel aktiivpiirkondade (lätte ja neelu) legeerimine. Legeerivaid lisandeid manustatakse ränisse kas difusioonmenetlusel tarvilikku lisandit sisaldavast gaasist kõrgel temperatuuril või ioonlegeerimise teel, mis võimaldab lisandeid täpselt doseerida. Sel juhul pommitatakse räni vaakumis ioniseeritud lisandiaatomitega; suure energiani kiirendatud ioonid tungivad kuni 1 µm sügavusele.

Seejärel toimub passiveerimine (kaitsekihi moodustamine) ning edasine fotolitograafiline struktureerimine. Avatakse oksiidikiht elektroodide ühendamise kohtadelt (väljaviikude loomiseks). Kõige peale sadestatakse juhtiv pind (nt hea juhtivusega polükristallilisest ränist), milles moodustatakse ribad integraallülituse teiste elementidega ühenduste loomiseks.

Valmis lülitused pooljuhtkettal eraldatakse üksteisest (nt. laserikiirt kasutades) kiipideks. Töökorras kiibid kinnitatakse korpuse alusele ja integraallülituse kontaktpinnad ühendatakse väljaviikudega. Lõpuks ümbritsetakse komponent hermeetilise korpusega.

MOSFETi tehnoloogilise protsessi etapid (lihtsustatult)Redigeeri

1. Aktiivpiirkondade (pais, läte, neel) moodustamine

• Oksüdatsioon (nt ränidioksiidi kiht)
• Pinna fotoresistiga katmine
• Fotolitograafiline maskeerimine (negatiivresist)
• Fotoresisti eemaldamine
• Paisuelektroodi moodustamine tagasisöövitusega
• Fotoresisti eemaldamine

2. Paisustruktuuri moodustamine

• Polüräni kihi sadestamine
• Fotoresisti pealekandmine
• Fotolitograafiline maskeerimine
• Fotoresisti ilmutamine
• Polüräni kihi söövitamine
• Resisti eemaldamine

3. Aktiivpiirkondade legeerimine ja passiveerimine

• Lätte ja neelu pindade legeerimine (dopeerimine)
• Oksiidikihiga katmine (passiveerimiseks)

Väljatransistori kanali pikkusega (lättest neeluni) väljendatakse integraaltehnoloogia arengujärke: esialgsest 3 mikromeetrist (1975) on jõutud 10 nanomeetri tehnoloogiani (2016).

Fotoresist ehk fotolakk

Fotoresist (ingl k photoresist) ehk fotolakk (saksa k Fotolack) on polümeerne valgustundlik materjal, mida kasutatakse fotolitograafia protsessides integraaallülituste ja trükkplaatide valmistamisel. Fotoresisti säritamisel (tavaliselt laseri ultraviolettkiirgusega valgustamisel) muutub selle koostis fotokeemiliste reaktsioonide tulemusel nii, et see lahustub teatud ainetes. Fotoresist kantakse töödeldavale pinnale ja säritatakse läbi fotošablooni (vajaliku mustriga maski), nii et moodustuvad lahustatavad pinnaosad (aknad) edasiseks töötlemiseks.

Olenevalt fotoresisti lahustuvusomadustest eristatakse negatiiv- ja positiivresiste.

• Negatiivresisti lahustuvus säritamisel järsult väheneb – säritatud pinnaosadel resist polümeriseerub ning muutub ilmutamisprotsessis lahustamatuks, s.t katab säritatud pinnaosad, valgustamata pinnaosadelt resist lahustub:

• Positiivresisti lahustuvus säritamisel suureneb – säritatud pinnaosadel muutub resist lahustuvaks ja ilmutamise järel eemaldatakse, nii et alles jäävad ainult säritamata (maskiga kaetud) pinnaosad.

Fotoresistide tähtsamad lähtematerjalid on polümeerid (nt polümetüülmetakrülaat, polümetüülglutarimiid) ja epoksüvaigud (nt fotolakk SU-8). Ilmutina on kasutusel näiteks tsüklopentanoon või gammabutürolaktoon,

Nanolitograafia

Nanolitograafia on nanotehnoloogia haru, mis tegeleb nanoelektroonika komponentide valmistamisega, mida kasutatakse mikroprotsessorites, mäludes, rakendusotstarbelistes mikroskeemides (integrated circuit). Tänu litograafia tehnoloogiate arengule on pooljuhtide tööstust saatnud edu, mida kinnitab ka Moore'i seadus. Üldiselt on nanostruktuursete pindade valmistamiseks kaks lähenemisviisi: ülalt-alla- (top-down) ja alt-üles-meetod (bottom-up), kuid kasutatakse ka tehnoloogiaid, mis kombineerivad neid.

Ülalt-alla-meetodid

Ülalt-alla-meetodeid kasutatakse palju pooljuhtide uurimisel ja tööstuses.

Fotolitograafia tööpõhimõtte skeem

Fotolitograafia

Fotolitograafia ehk optiline litograafia on olnud valdavaks tehnikaks mikroskeemide litografeerimisel. Kasutatakse väga madalaid lainepikkusi (193 nm). Meetodi tööpõhimõte on järgmine:

Alus ehk substraat kaetakse kilega (1). Kile peale kantakse fotoresisti kiht, mis muutub UV-kiirguse mõjul lahustuvaks (positiivne fotoresist) või lahustumatuks (negatiivne fotoresist) spetsiaalses kemikaalis (2). Siis eksponeeritakse eelnevalt sadestatud kilet UV-valgusega läbi fotomaski, millel on kujutis vastavalt soovitud elemendile integraalskeemis (3). Seejärel eemaldatakse eksponeeritud resist (4) ning söövitatakse kile samast kohast (5). Näiteks SiO₂ kile korral saab seda söövitada HF-ga. Viimase etapina eemaldatakse fotoresist (6), näiteks H₂SO₄ abil.

Elektronkiirlitograafia

Elektronide voog kiirendatakase substraadile ning seda liigutatakse elektri- ja magnetvälja abil vastavalt soovitud elemendi kujule. Elektronide doos ja kiire energia on täpselt kontrollitavad. Elektronkiirega saab "joonistada" elemente nii otse kui ka läbi maski.

Klassikaline DPN mehhanism: Molekulaar "tint" difundeerub teravikult pinnale läbi veemeniski

Skaneeriva kiire litograafia

Siia alla kuuluvad meetodid, mis kasutavad skeemi "joonistamiseks" teravikku, mida liigutatakse mehaaniliselt mööda pinda. Skaneeriva kiire litograafia võib jaotada kaheks: keemiline ja füüsikaline pinna modifitseerimine. Esimese meetodi puhul rakendatakse lokaalse oksüdatsiooni protsesse. Teise meetodi korral moodustub soovitud struktuur materjali füüsikalise liigutamisega substraadil.

Teraviknanolitograafia (Dip-pen nanolithography, DPN), mis on füüsikaline skaneeriva kiire litograafia meetod, kasutab AFM’i teravikku, et materjali pinnale kanda. See materjal võib olla kas teraviku enda koostisosa (näiteks Au), mida mõjutatakse jõu või vooluga, või füüsikaliselt adsorbeeritud materjal. Teravikult substraadile kantakse materjal kapillaarjõudude abil.

Muid ülalt-alla-meetodiga litograafia tehnoloogiaid

• Sügava UV-kiirguse litograafia (Extreme ultraviolet lithography)
• Röntgenlitograafia (X-ray lithography)
• Magnetlitograafia (Magnetolithography)
• Kontaktlitograafia (Contact lithography)
• Pehme litograafia (Soft lithography)

Alt-üles-meetodid

Alt-üles-meetodid on arendanud (bio)keemikud ning need on seotud molekulaarse iseorganiseerumisega (molecular self-assembly). Iseorganiseerumise meetodid võib jaotada kaheks: 1) kahjumlik protsess (sacrificial process), kus iseorganiseeruvad nanokomponendid eemaldatakse ja nad ei osale aktiivselt nanostruktuuride moodustumisel, 2) aktiivne protsess, kus iseorganiseeruvad nanokomponendid on mikroskeemide osana. Mõlemal juhul põhjustavad organiseerumise mitmed intermolekulaarsed jõud (vesinikside, Van der Waalsi jõud, hüdrofoobsed/hüdrofiilsed ja π-π vastastikmõjud), mille eesmärgiks on minimeerida termilist ja kineetilist energiat, mille tulemusena moodustub muster.

Näiteks kasutatakse nanostruktuuride organiseerumiseks nukleiinhappeid, kuna neil on etteennustatav iseorganiseerumise mudel, nende dimensioonid on hästi teada ja neid saab funktsionaliseerida. DNA origami tehnoloogia seisneb pika (100 nm) ühekiulise DNA voltimisel juhuslikuks tasapinnaliseks nanovormiks.

Kombineeritud meetodid

Kombineeritud meetod kasutab nii ülalt-alla- kui ka alt-üles-meetodeid. Chung et al. on kombineerinud DPN-i ja DNA-suunatud iseorganiseerumist, kus nanoskaalas elektroodiliited on selektiivselt funktsionaliseeritud spetsiifilise oligonukleotiidi järjestusega kasutades DPN-i. Need järjestused suunavad elektriskeemi iseorganiseerumist, mis sisaldavad 20 nm ja 30 nm diameetriga DNA-ga modifitseerituid nanoosakesi. Selle tulemusena moodustuvad liited, mis on ühendatud üksiku nanoosakesega.

Elektronkiirlitograafia

Elektronkiirlitograafia on fotolitograafiast välja arenenud eraldiseisev tehnoloogia pooljuhtmaterjalide tööstuses mikrokiipide valmistamiseks. Elektronkiirlitograafiat on kasutatud ka röntgenikiiri fokuseerivate tsooniplaatide tegemiseks.

Elektronlitograafia põhimõte

Kasutades sügavat ultraviolettkiirgust on klassikalises fotolitograafias parimal juhul võimalik saavutada täpsust veidi alla 1 µm. Seda annab veelgi parendada kasutades lühema lainepikkusega kiirgust, näiteks röntgeni- või elektronkiirgust. Elektronkiirlitograafia kasutab elektrone, millel on lühike lainepikkus. Näiteks 100 keV elektroni lainepikkus on 3,8×10⁻⁹ nm. Saavutatava täpsuse määrab tegelikult pigem elektronoptika kui kasutatav lainepikkus, nagu see on fotolitograafia korral. Elektronlitograafia seade on sisuliselt modifitseeritud skaneeriv elektronmikroskoop. Elektronkiir fookustatakse ning seda on võimalik pinnal kahes risti asetsevas suunas liigutada. Huvipakkuv muster söövitatakse otse kiibile, kiiritades kiibil olevat fotoresisti kihti elektronkiirega. Fotoresistiks on enamasti erinevad polümeersed materjalid. Arvuti juhib elektronkiirt pinnal, et saavutada vajalik muster. Enamasti kasutatakse pinna skaneerimiseks elektronkiire rasterskaneerimist, s.t rida rea järel skaneerimist.

Lahutusvõime elektronlitograafias

Elektronkimbu ristsuunaline laienemine hajumise tagajärjel: pealelangev elektron (punane) tekitab tagasihajunud elektrone (sinised). Vahel võib pealelangev elektron ka ise tagasi hajuda (nagu sellel joonisel) ning materjalist lahkuda

Mikroelektroonika ja nanotehnoloogia rakenduste seisukohalt peavad litograafiaga valmistatavad mustrid olema väga detailsed ning valmistatava mustri lahutusvõime on nendes valdkondades kõige tähtsam parameeter. Elektrone on võimalik koondada väga väikesele pinnale, kuid paksust materjalikihist läbi minnes hajub elektronkiir ka liikumissuunaga risti olevatesse suundadesse ning tagasihajunud elektronid (mis mõjutavad ka pinnale kantud fotoresisti) põhjustavad saavutatava mustri lahutusvõime vähenemist. Ühe lahendusena võiks kasutada võimalikult õhukest pooljuhtplaati, mis vähendaks tagasihajunud elektronide hulka, võimaldades joone paksusi 10 nm suurusjärgus. Teine lahendus oleks kasutada võimalikult väikese algenergiaga elektrone, mis ei tungi alusesse nii sügavale ning mille ristsuunaline hajumine on samuti väiksem.

Fotoresisti kasutamine

Positiivse fotoresistiga mustri saavutamine

Positiivse fotoresisti korral on elektronkiire peamine ülesanne keemiliste sidemete lõhkumine. Selle tulemusena väheneb fotoresisti, mis on enamasti polümeer, molekulmass ning fotoresisti materjal muutub orgaaniliste solventide jaoks hõlpsamini lahustuvaks. Kui fotoresistiks on õhuke kiht pinnal, näiteks ränist pooljuhtalusel, siis orgaanilises lahustis "ilmutamise" järel paljastub elektronkiire abil joonistatud muster. Lahustumata jäänud polümeerikiht kujutab endast barjääri keemilisele või ioonkiirega söövitamisele, sellest ka nimieosa -resist (ingl. k takistus, vastupanu). Pärast söövitust eemaldatakse ka fotoresist. Selle tagajärjel on fotoresisti all olnud muster kantud pinnale. Levinuimad positiivsed fotoresistid on PMMA (polümetüülmetakrülaat), EBR-9 (polü(2, 2, 2-trifluoroetüül-kloroakrülaat)), PBS (polü(buteen-1-sulfoon)) ning ZEP (kloromeakrülaadi ja metüülstüreeni kopolümeer).

Negatiivse fotoresistiga mustri saavutamine

Negatiivse fotoresisti korral suureneb elektronkiirega kiiritamise tagajärjel keemiliste sidemete arv fotoresistis orgaaniliste molekulide vahel ristseoste tekkimise tõttu. Selle tagajärjel suureneb elektronkiirega kiiritatud piirkondades molekulmass ning lahustuvus solvendis väheneb. Pärast "ilmutamist" tekkiv muster on elektronkiirega joonistatud mustri negatiiv, s.t fotoresist jääb alles piirkondadesse, mida elektronkiirega kiiritati. Levinumad negatiivsed fotoresistid on COP (glütsidüül metakrülaadi ja etüülakrülaadi kopolümeer) ning SAL (koosneb kolmest osast: baaspolümeer, happe tekitaja ja ristseostav toimeaine).

Üheks sellise protsessi näiteks on elektronkiire tõttu tekkiv saastumine vaakumsüsteemides. Orgaaniliste ühendite (peamiselt süsivesinike) aurud jõuavad vaakumkambrisse näiteks kummitihenditelt. Pinnale adsorbeerunud süsivesinike kiiritamisel elektronkiirega polümeriseeruvad pinnal asetsevad molekulid kõrge molekulmassiga ühenditeks, mida enamik teadaolevaid lahusteid ei suuda eemaldada. Sellist, enamasti soovimatut efekti on võimalik ära kasutada näiteks fotoresisti tekitamiseks ioonidega kiiritamise jaoks.

Elektronlitograafia eelised ja puudused võrreldes teiste litograafiliste meetoditega

Elektronlitograafia puudused võrreldes foto- ja röntgenlitograafiaga

Üks elektronlitograafia põhilistest puudustest võrreldes foto ja röntgenlitograafiaga on selle ajamahukus. Foto- ja röntgenlitograafias valgustatakse läbi maski kogu pinda korraga. Seevastu elektronkiirlitograafias saavutatakse detailne muster mikrokiibil rasterskaneerimise abil, mis võtab väga palju aega. Ajakulu vähendamiseks kombineeritakse elektronkiirlitograafiat tavalise fotolitograafiaga. Suurem osa mikrokiibist valmistatakse klassikalise fotolitograafia abil, kuid peenemat detailsusastet vajavad osad (nagu näiteks väljatransistori pais) saavutatakse elektronkiire abil.

Teine põhiline puudus võrreldes teiste meetoditega on elektronide kasutamisest tingitud probleem: elektronhajumisest põhjustatud lähipiirkonna efekt (ingl. k proximity effect), mille tõttu saavad teatud tagasihajunud elektronide doosi ka need fotoresisti piirkonnad, mida otseselt ei kiiritata. Seega näiteks positiivse fotoresisti kasutamisel võivad teatud fotoresisti piirkonnad, mida ei ole elektronkiirega kiiritatud, ilmutamisel ikkagi lahustuda.

Elektronlitograafia eelised võrreldes foto- ja röntgenlitograafiaga

Elektronlitograafia peamine eelis fotolitograafia ees on lahutusvõime: elektronlitograafia võimaldab saavutada lahutusvõimet kuni 10 nm, samal ajal kui fotolitograafia on võimeline sügavat ultraviolettvalgust kasutades saavutama lahutusvõimet kõigest veidi alla 10 μm. Nii foto- kui ka röntgenlitograafiaga võrreldes on elektronlitograafia üheks eeliseks see, et elektronlitograafia ei vaja eraldiseisvat maski, vaid muster kirjutatakse elektronkiire pinnal liigutamisega otse fotoresistile.

Fotolitograafia

Fotolitograafia ehk optiline litograafia on pooljuhttehnoloogia protsess, kus kujutis kantakse alusmaterjali ehk substraadi pinnale. Kasutatakse väga väikese lainepikkusega valgust (ultraviolettkiirgust), et kanda fotomaski kujutis alusel olevale valgustundlikule kemikaalile, s.o fotoresistile, millele järgneb söövitusprotsess.

Fotolitograafia on olnud valdavaks tehnikaks integraallülituste litografeerimisel, näiteks CMOS-kiip läbib fotolitograafia tsükli kuni 50 korda.

Põhiprotseduur

Lihtsustatud joonis kuivsöövitusest positiivse resistiga fotolitograafia protsessis

Üks fotolitograafiaprotsess koosneb mitmest sammust, milleks tavaliselt on pooljuhtplaadi puhastamine, ettevalmistus, fotoresisti pealekandmine, solventide (lahustite) eemaldamine, fotomaski paigaldus, eksponeerimine, ilmutamine, söövitamine ning fotoresisti eemaldus. Tänapäevastes puhasruumides on litograafiaprotsess suuresti automatiseeritud.

Alusmaterjali pinna puhastus

Võimalikud saasteained eemaldatakse pooljuhtplaadi pinnalt tavaliselt keemilise töötlusega, näiteks vesinikperoksiidi sisaldavate lahustega RCA puhastusmeetodil.

Ettevalmistus

Pooljuhtplaat kuumutatakse temperatuurini, et kogu võimalik niiskus aluse pinnalt ära auraks. Lisatakse ka n-ö adhesiooni promootorit, mis hiljem soodustab fotoresisti adhesiooni pooljuhtplaadi pinnale.

Fotoresisti pealekandmine

Pooljuhtplaat kaetakse fotoresistiga vurrkatmise teel. Viskoosne, vedel fotoresisti lahus jaotatakse pooljuhtplaadile, mis pöörleb kiiresti ja tsentrifugaaljõu tõttu saab ühtlase paksusega fotoresisti kile. Vurrkatmine kestab keskmiselt 15–60 sekundit, 1200–6000 pööret/min. Saadud kihi paksus on 0,5 ja 2,5 mikromeetri vahel ning väga ühtlane. Seejärel fotoresistiga kaetud pooljuhtplaat kuumutatakse temperatuuril, mis on kõrgemal kui klaasisiirde temperatuur umbes 30–60 sekundit, et liigne solvent ära auraks ning fotoresisti kile tiheneks.

Ekspositsioon ja ilmutamine

Pärast kuumutamist valgustatakse eelnevalt sadestatud kilet UV-kiirgusega läbi fotomaski, millel on kujutis vastavalt soovitud elemendile integraallülituses, mis põhjustab fotoresistis kas molekulidevaheliste põiksidemete tekke (näiteks SU-8) või, vastupidi, keemiliste sidemete lagunemise (näiteks PMMA). Positiivne resist on materjal, mida saab paremini lahustada pärast UV-kiiritamist, seega pooljuhtplaadile pärast ilmutust jäänud muster vastab fotomaski omale. Negatiivne resist, vastupidi, kõvastub pärast kiiritamist ning ilmutuslahus eemaldab ainult eksponeerimata alad (nimetus analoogselt negatiivile fotograafias). Saadud pooljuhtplaat kuumutatakse, et järelejäänud fotoresist kõveneks ja oleks vastupidavam järgnevale söövitusele.

Söövitus

Söövituse korral, vedelik ("märg") või plasma ("kuiv") eemaldab substraadil pindmised kihid, mida ei kaitse fotoresist. Keemiline märgsöövitus toimub reeglina aluse või happega ja söövitusprotsessi peatamiseks pestakse pinda puhta veega. Näiteks SiO₂ kile korral saab seda söövitada HF-ga. Kuivsöövituse puhul toimub materjali eemaldamine plasma keemilisel või füüsikalisel vastasmõjul materjaliga. Pooljuhtfabritseerimises kasutatakse enamasti kuivsöövitusmeetodeid, kuna see võimaldab anisotroopset söövitust, mis lubab valmistada väga täpseid, teravate nurkade ja servadega struktuure. Näiteks HfO₂ kile puhul on efektiivsem plasmasöövitus. Söövitamise kvaliteet on määratud fotoresisti kihi adhesiooniga plaadil, võimalike defektidega maskis ning sõltub söövitaja keemilisest loomusest ja söövitusprotsessi parameetritest. Oluline on seejuures protsessi selektiivsus – see peab üldiselt eemaldama ainult soovitud materjali ega tohi mõjuda fotoresistile.

Fotoresisti eemaldamine

Viimase etapina eemaldatakse fotoresist substraadilt ning saadakse puhta pinnaga materjal, kuhu on kantud vajalik integraallülitus. Fotoresisti eemaldamine toimub kas kuiv- või märgmeetodil ning enamasti kasutatakse viimati mainitud meetodit, kus vedelik muudab fotoresisti sellisel viisil, et see enam ei adheeru substraadile. Selliseks aineks on näiteks H₂SO₄. Fotoresisti kuiveemaldamine viiakse läbi tavaliselt hapnikku sisaldavas plasmas ning see sarnaneb kuivsöövitusega.

Eksponeerimise põhimeetodid

Kontaktlitograafia

Kontaktlitograafia korral pressitakse mask vahetult vastu resistiga kaetud alust ning seejärel eksponeeritakse UV-kiirgusega. Meetodi eeliseks on hea ruumiline lahutus, kuna mask ja resist on vahetus kontaktis. Puuduseks on maski suhteliselt kiire mehaaniline kulumine.

Lähilitograafia

Lähilitograafia sarnaneb kontaktlitograafiaga, kuid esimese puhul asetatakse mask alusest paarikümne mikromeetri kaugusele. See vähendab maski kulumist, kuid samas valguse difraktsiooni tõttu ka ruumilist lahutust.

Projektsioonlitograafia

Projektsioonlitograafia korral maski kulumist ei esine, kuna maski kujutis projekteeritakse resistiga kaetud alusele mitme sentimeetri kauguselt. Kõrge lahutuse saamiseks projekteeritakse ainult väike osa maskist korraga ning skaneeritakse mööda pooljuhtplaadi pinda, kuniks terve fotoresist pooljuhtplaadil on eksponeeritud. Sellest tulenevalt lubab meetod parimat lahutust ja saab kasutada vähendatud kujutist (4–5 korda), mis seab väiksemad nõuded maski valmistustäpsusele. See on levinuim meetod tänapäeval.

Fotomaskid

Fotomask valmistatakse valgust läbilaskvale (tavaliselt amorfsest kvartsklaasist) alusele, millele kantakse valgust blokeerivad mustrid. Tavaliselt kujutavad viimased endast umbes 100 nm paksusi ioontolmustamise teel valmistatud kroomkilesid. Fotomaske kasutatakse enamasti lainepikkustel 365 nm, 248 nm ja 193 nm, kuid kasutatakse ka lühemaid lainepikkusi. Valguse difraktsiooni tõttu on ruumilise lahutuse piir määratud poolega valguse lainepikkusest ning seetõttu on järjest väiksemate struktuuride valmistamiseks tulnud üle minna järjest ultravioletsematele allikatele. Viimasest tulenevalt lülituse elemendid, mis on väiksemad kui 150 nm vajavad reeglina faasinihkemaske, et parendada kujutise kvaliteeti rahuldavate väärtusteni.

Ruumiline lahutus

 Fotolitograafias on põhiprobleemiks kasutatava kiirguse difraktsioon. Lühema lainepikkusega kiirguse kasutamine võimaldab kiirguse difraktsiooni vähendada. Modernsed fotolitograafiaseadmed kasutavad eksimeerlasereid, millega on võimalik printida kuni 50-nanomeetriseid elemente. Eksimeerlaser-litograafia omab seega olulist rolli Moore’i seaduse jõuspüsimisel viimase 20 aasta vältel.

Väikseim integraallülituse element, mida projektsioonilitograafiaga printida saab, on antud valemiga:

${\displaystyle CD=k_{1}\cdot {\frac {\lambda }{NA}}}$, kus

${\displaystyle \,CD}$ on minimaalne (joonistatava) elemendi suurus ehk kriitiline mõõde
${\displaystyle \,k_{1}}$ (k1 faktor) on koefitsient, mis sisaldab protsessiga seotud tegureid ja tüüpiliselt võrdub 0,4 tootmises.
${\displaystyle \,\lambda }$ on kasutatava valguse lainepikkus ja ${\displaystyle \,NA=nsin\theta }$ on läätse avaarv, mis näitab optilise süsteemi võimet koguda talle langevat valgust. ${\displaystyle \,n}$ on läätse ja pooljuhtplaadi vahelise keskkonna murdumisnäitaja ning ${\displaystyle \,\theta }$ on maksimaalne vastuvõtunurk. Mida suurem see on, seda suurem on avaarv.
Sellest võrrandist tulenevalt saab minimaalset elemendi suurust vähendada, vähendades lainepikkust ja suurendades avaarvu, kasutades immersioonvedelikku (näiteks vesi).

Valgusallikad

Algselt saadi UV-kiirgust fotolitograafias gaaslahenduslampidest, kasutades elavhõbedat, mida vahel kasutati koos väärisgaasidega nagu näiteks ksenoon. Need lambid toodavad valgust laias lainepikkuste vahemikus koos mõne maksimumiga UV-kiirguse piirkonnas. Seda spektrit filtreeritakse, et valida välja üks spektrijoon. 1960. aastate algusest kuni 1980. aastate keskpaigani kasutati litograafias elavhõbelampe iseloomulike 436 nm ("g-joon"), 405 nm ("h-joon") ja 365 nm ("i-joon") spektrijoonte tõttu. Pooljuhtelektroonika tööstuse vajadus suurema lahutusvõime ja tootlikkuse järele, muutis seni kasutatud lambid iganenuks.

See probleem sai lahendatud 1982. aastal, kui Kanti Jain pakkus välja ja demonstreeris IBM-is eksimeerlaser-litograafiat. Nüüd on eksimeerlaser-litograafia masinad (stepperid ja skannerid) peamised vahendid, mida kasutatakse mikroelektroonika kiipide tootmisel kogu maailmas. Viimase kahe aastakümne jooksul on tööriistade tehnoloogias toimunud suur areng ning pooljuhttööstuse nägemuse järgi on eksimeerlaser-litograafia olnud Moore'i seaduse edasiarendamisel kriitiline tegur, mistõttu on kiipide tootmisel minimaalne detailide suurus muutunud 20 aasta jooksul 0,5 mikromeetrist vähem kui 45 nanomeetrini. Usutakse, et see trend jätkub ka sel aastakümnendil, ning toodetakse veel tihedamaid kiipe, mille minimaalsed mõõtmed lähenevad 10 nanomeetrile.

Levinumad UV eksimeerlaserid litograafiasüsteemides on KrF-laser lainepikkusel 248 nm ja ArF-laser 193 nm lainepikkuse juures. Kuigi F₂laserid on ka saadaval, tootes 157 nm valgust, ei ole nad praktilised, kuna on madala võimsusega ja degradeerivad läätsematerjale väga kiiresti.

Eksperimentaalmeetodid

Lisaks uutele valgusallikatele parandavad lahutusvõimet fotolitograafias modernsed tehnikad, nagu immersioonlitograafia ja mitmekordne kirjamine (multiple patterning), kus kasutatakse mitut fotomaski. Immersioonlitograafia on tehnika, kus kasutatakse vedelikku läätse ja pooljuhtplaadi vahel, et vastavalt ülevalnimetatud valemile suurendada lahutusvõimet. Vältimaks uutele tehnoloogiatele üleminekust tulenevaid kulutusi, laenasid tootjad selle tehnika mikroskoopiast, kus kasutati avaarvu suurendamist immersioonvedeliku abil. See töötab, kuna avaarv on maksimaalse nurga, mille juures valgus läätse siseneda saab, ja keskkonna murdumisnäitaja funktsioon. Reeglina on vedelikuks vesi murdumisnäitajaga kuni ~1,4 ning seda hoitakse pidevas tsirkulatsioonis, et eemaldada soojusest tingitud kõrvalekaldeid. Kasutades veelgi suurema murdmisnäitajaga vedelikke, on võimalik avaarvu suurendada. Praegu tootmises olevad masinad suudavad just äsja mainitud tehnikate tõttu toota mikrokiipe, kus väiksema elemendi karakteristlik mõõde on 22 nm. Tänapäeva teadus uurib ka fotolitograafia alternatiive, milleks on näiteks elektronkiirlitograafia, röntgenlitograafia ja muud.

Heliograafia

Heliograafia (prantsuse keeles, héliographie) alates Helios (Kreeka: ἥλιος ) , mis tähendab "päike" , ja graphein (γράφειν), "kirjalikult") on fotograafiline protsess leiutatud Joseph Nicéphore Niépce ümber 1822.  , mida ta saab teha kõige varasem teadaolev loodusest säilinud foto „ Vaade aknast Le Grases“ (1826 või 1827) ja esimene fotoresisti teostus kunstiteoste reprodutseerimise vahendina fotolitograafia ja fotogravüüri leiutiste kaudu .

Varaseim teadaolev säilinud heliograafiline gravüür, trükitud Joseph Nicéphore Niépce poolt 1825. aastal valmistatud metallplaadilt oma "heliograafilise protsessi" abil. Plaat paljastati tavalise graveeringu all. Heliograafiat kasutati ka kaameraga otse loodusest stseeni jäädvustamiseks .

Leiutis

Algse graveeringu ja Joseph Nicephore Niepce heliograafia võrdlus. vasakul: Georges d'Amboise'i portree graveering , 1650 paremal: graveeringu heliograafia (heliogravüür), 1826

Niépce koostas oma eksperimentide kokkuvõtte novembris 1829: Heliograafiast ehk meetodist, mille abil valguse toimel kaamera obscura moodustatud pilt automaatselt fikseeritakse, mis kirjeldab tema kavatsust kasutada oma fotogravüür või fotolitograafia litograafiliste , sügavate või reljeefsete põhiplaatide valmistamise vahendina mitme trükitud reproduktsiooni jaoks.

Ta teadis, et söövitamisel kasutatav happekindel Juudea bituumen kõvenes valguse käes. Eksperimentides määris ta seda tassidele klaasist, tsinki, vaske ja hõbedat pinnaga vask, tina ja litograafiakivina, ja leidis, et selle vastu aitab lavendliõli ja nafta lahustamine, nii et katmata varju piirkondi saaks musta tindi printimiseks traditsiooniliselt töödelda happelise söövitamise ja akvatinta abil. 

Kannatanut ja lahusti töödeldud plaat ise, nagu puhul Vaade aknast Le Gras, esitab negatiivse või positiivse pildi sõltub ümbritseva peegeldus, mitte erinevalt dagerrotüüp , mis põhines Niépce avastusi.

Keemia

Bituumenil on polütsükliliste aromaatsete süsivesinike (seotud benseenitsüklid ) keeruline ja mitmekesine struktuur , mis sisaldab väikest osa lämmastikku ja väävlit ; Oma jäigastumine proportsionaalselt tema valguse toimel Arusaadavalt on tingitud täiendavalt ristsiduva tsüklitest, nagu see on jäigastumine puude vaik ( kampol või abietiinhape ) valgusega esimese märkis Jean Senebier 1782 fotokeemiat nendest protsessidest, mida Jean-Louis Marignier Pariisi-Sud'i ülikoolist on uurinud alates 1990. aastatest, tuleb siiani täielikult mõista.

Alternatiivsed tähendused

Sõna on kasutatud ka viidata muude nähtuste: kirjeldamise päike (vt geograafia ), fotograafia üldiselt, signaliseerimiseks heliograph (seade harvemini nimetatakse heliotrope või Helio-telegraafi) ja fotograafia kohta päike. 

Lühendid héliog. või héliogr. , mis on leitud vanadel reproduktsioonidel, võib tähendada prantsuskeelset sõna héliogravure ja võib seejärel viidata mis tahes fotogravüürile.

Fotode ning Fotograafia liigid ja žanrid

Millised on fotograafia liigid. Mis on fotograafid

Fotode tüübid

1) Must-valge foto.

Ajalooliselt on esimene fototüüp. Pärast värvi ilmumist ja seejärel digitaalset fotot, must-valget pilti on säilitatud populaarsus. Sageli muudetakse värvifotod kunstiliseks efektiks mustvalgeks.

2) Värviline foto.

Värvifotograafia ilmus XIX sajandi keskel. Esimene püsivärviline foto võeti 1861. aastal James Maxwellilt, kasutades kolmevärvilise fotograafia meetodit (värvide eraldamise meetod). Värvide eraldamine on originaali värvilise kujutise jagamine eraldi mustvalge ühtlase skaala kujuga.

Selle meetodi abil värvilise pildi saamiseks kasutati neile kolm kaamerat (punane, roheline ja sinine). Saadud kujutised võimaldasid projitseerida (ja hiljem printida) värvilise pildi.

Teine suur samm kolmevärvilise fotograafia meetodi väljatöötamisel oli 1873. aastal avastatud sensoritest Saksa fotokeemik Hermann Wilhelm Vogel, st ained, mis on võimelised suurendama hõbedaühendite tundlikkust erineva lainepikkusega kiirte suhtes. Vogelil õnnestus saada ühend, mis on tundlik spektri rohelise osa suhtes (füüsilise koguse väärtuste jaotus: energia, sagedus või mass).

Kolmevärvilise fotograafia praktiline rakendamine oli võimalik pärast Vogeli õpilast, Saksa teadlane Adolf Miette töötas välja sensitiseerijaid, mis muudavad fotoplaadi tundlikuks spektri teiste osade suhtes.

Koos värvieraldusmeetodiga hakkasid 20. sajandi algusest alates aktiivselt arenema ka teised värvifotograafia protsessid (meetodid). Eriti patenteeriti 1907. aastal Lumiere Brothers'i avtokroomne fotoplaat ja müüdi see tasuta, mistõttu värvifotode saamine oli suhteliselt lihtne. Hoolimata arvukatest puudustest (värvide kiire kadumine, plaatide ebakindlus, pildi tera) sai meetod kiiresti populaarseks ja kuni 1935. aastani toodeti maailmas 50 miljonit autokroomi.

3) Instant foto.

Mitmed fotod, mis kasutavad spetsiaalseid fotomaterjale, millel on keerulisem seade kui traditsioonilised. Sellised fotomaterjalid sisaldavad sisseehitatud konteinereid fotokihi keemiliseks töötlemiseks mõeldud reagentidega ja ilmuvad automaatselt kohe pärast pildistamist, andes valmis positiivse pildi. Selliste fotokomplektide kuulsaim tootja oli Polaroid, mille asutaja Edwin Land leiutas pildi ülekandmise põhimõtte.

4) Digitaalne fotograafia.

Digitaalne fotograafia on suhteliselt noor, kuid populaarne tehnoloogia, sündinud 1981. aastal, kui Sony käivitas Sony Mavica CCD kaamera, mis salvestab pildid kettale. See seade ei olnud kaasaegses mõttes digitaalne (plaadile salvestati analoogsignaal), kuid see võimaldas filmist loobuda. Esimene täieõiguslik digikaamera DCS 100 ilmus 1990. aastal Kodaki poolt.

Žanri fotod

20. sajandil, kui fototehnika oli piisavalt paranenud, ilmusid tundlikud fotomaterjalid ja mugavad kaamerad, fotograafia muutus tehnilisest uudishimust üheks visuaalse kunsti tüübiks, mis sarnaneb maaliga, kuid erineb sellest.

Fotograafia eriline koht ja tähtsus kunstikultuuris on seotud fotograafia tehnilise, teadusliku sisuga. Foto kõige olulisem omadus on selle autentsus, salvestatud sündmuste autentsus. Samal ajal kannab pilt, nagu maalil või joonisel, kunstilist üldistamist, näidatud olukorra sisemise tähenduse avalikustamist, kujutatava isiku iseloomu ja palju muud.

Sisuliselt on fotograaf teatud “värvidega” fotograafia ja fotomaterjal. Fotograaf kasutab fotograafia (vaade, nurk, lineaarne koostis, plaan, perspektiiv, valgustus) pildistamisvahendeid, mis on seotud maalikunsti piltidega. Täiendav tööriist on keemiline-fotograafiline töötlemine. Osa tänapäeva fotograafia žanritest kordab vastavaid maali žanre, samas kui osa on spetsiifiline ainult fotograafiale.

Fotograafia peamised žanrid kui kunst.

1) Portree.

Portree on tegelikkuses olemasoleva või olemasoleva inimese või inimeste rühma pilt või kirjeldus, sealhulgas kunstilised vahendid (maal, skulptuur, graafika, fotograafia, trükkimine), samuti kirjandus- ja kohtuekspertiis (verbaalne portree).

2) Still Life.

Natüürmort (looduse morte - “surnud loodus”) kujutab kujutavat kunstis elavaid elusaid objekte, mitte portree-, žanr-, ajaloolisi ja maastikke.

3) Maastik.

Maastik (Fr.Paysage, maksab - riik, paikkond) on kaunite kunstide žanr (samuti selle žanri individuaalsed teosed), kus kujutise peamine teema on esmased või teatud määral inimese poolt muundatud. Kaasaegsed ideed maastiku kohta on kujunenud sajandite vältel selle maine kunstitehnikate arendamisega. Maastiku töös pööratakse erilist tähelepanu liikide perspektiivi ja koostise ülesehitamisele, atmosfääri seisundi, õhu ja valguse keskkonna edastamisele ning nende varieeruvusele.

4) Fotohunt.

Photohunting (inglise metsloomade fotograafia) on fototüüp, kus linnud, loomad, putukad ja muud looduses olevad olendid on fotograafia objektiks. See ühendab kolme aspekti - sport (seetõttu võib seda pidada ka uueks spordi-jahipidamiseks, mis ilmus 20. sajandi alguses ja sai meie ajal eriti populaarseks); - kognitiivne, milles see on seotud fotograafiaga kui bioloogia valdkonna teadusliku uurimistöö meetodiga, milles peamine nõue on dokumentaalsus; - kunstiline, kuna see moodustab kunstilise fotograafia ühe tüüpi kunsti kujul - sellisel juhul muutub esteetiline kriteerium peamiseks tulemuste hindamiseks.

5) Makro.

Makrorežiim (teistest kreeka keeltest. Μακρός - suur, suur) - foto, filmi või video tüüp, mille tunnuseks on objekti kujutise saamine skaalal 1: 2 - 20: 1 (st 1 sentimeeter pildist valgustundlikul materjalil) 2 - 0,05 sentimeetrit objekti).

Üldisemalt öeldes kasutatakse mõistet makrofotograafia juhul, kui pildistatakse lähemal kaugusest kui kaamera objektiivi kauguse skaalal näidatud vahemaad (enamiku peegelkaamerate objektiivide minimaalne teravustamiskaugus on umbes 0,5 meetrit, kaugusmõõturi objektiividele - umbes 1 meeter).

Makrofotograafia on laiendatud pildi moodustamise põhimõte. Objektiiv loob objekti tõelise suurendatud pildi mis tahes valgustundlikul materjalil - fotofilmis, fotoplaadil, fotopaberil, filmil või elektroonilisel seadmel (digikaamera või videokaamera maatriks, telekaamera vidikon). Mikrograafi kasutatakse väiksemate objektide pildistamiseks optilise mikroskoobiga.

6) Aruanne.

Aruanne - stseeni sõnum. Ajakirjanduse žanr, mille eripära on loetletud efektiivsuses. Lisaks sellele iseloomustab seda žanrit sündmuste erapooletu (reitingute puudumine) katvus ja see tähendab, et reporter on kirjeldatud tunnistaja või osaleja. Aruande autor ei pruugi olla sündmuse eest vastutav isik (kuigi ta võib olla näiteks materjalides, nagu „reporter muudab oma kutseala”), kuid ta on alati aktiivne vaatleja ja kommenteerija. Aruandes olevaid sündmusi ei esitata (nagu mõnikord mõeldakse), vaid need esitatakse tervikuna. Teisisõnu, aruandlus on žanr, mis annab sündmuse visuaalse esituse autori otsese tajumise kaudu - sündmuse tunnistaja või osaleja.

Teatud fotode tüübid.

1) Aerofotograafia.

Aerofotograafia - territooriumi pildistamine sadade meetri kõrgusest kümnetest kilomeetrist, kasutades atmosfääri õhusõidukile paigaldatud õhukaamerat (lennuk, helikopter, õhulaev jne) või nende mehitamata analoogi.

Aerofotograafia käigus saadud fotod on eriti kasutatavad kartograafias, maavalduse piiride määramisel, liikide uurimisel, arheoloogial, keskkonnauuringutel, filmide ja reklaamide tootmisel jne.

2) Lomograafia.

Lomograafia on fotograafia žanr, mille eesmärk on jäädvustada elu kõigis ilmingutes, nagu see on piltidel. Lomograafid otsivad ilu suurel hulgal teadlikult halva kvaliteediga filmidest, mis on võetud ebatavalistest nurkadest.

Selleks kasutati algselt 1983. aastal käivitatud Leningradi optilise mehaanilise assotsiatsiooni "LOMO Compact - Automatic" ("LOMO LC-A") automaatset kompaktkaamerat, millest nimi tuli. Toetab ja arendab Rahvusvaheline Lomograafia Selts, mille peakorter asub Viinis.

Lomograafia hõlmab hetkepüüdmist, arvestamata dokumentaalfotograafia traditsioonilisi kriteeriume, nagu teravus, usutav värvide reprodutseerimine, ühtne raami tihedus. See tuleneb enamiku lomograafia seadmete seadmestiku kättesaadavusest ja lihtsusest ning tihti lomograafide osa väikestest fotograafilistest kirjaoskustest. Seetõttu tõlgendavad mõned fotograafid ja amatöörfotograafid lomograafia mõistet kui mingit ebamugavat madala kvaliteediga amatöörfotot. Näitusel rühmitatakse lomograafilised kujutised mosaiigiliselt Lomo-seintesse, mitte ainult iga üksiku kaadri kunstiline väärtus, vaid ka nende terviklikkus, millele saab kõik kujutada.

3) luminograafia.

Luminograafia - valgusobjektide pildistamine (valgusallikad või peegeldused, mis tulenevad nimest (ladina keel: valgus ", iidne-kreeka. Γράφω" kirjalikult "). Läänes kasutatakse terminit" valguse värvimine "kõige sagedamini, et tähistada fotograafia kunsti suundumust .

Luminograafia on kaks peamist meetodit: staatiline ja dünaamiline. Üldreegel on pikaajaline kokkupuude.

Staatiline meetod: kaamera on fikseeritud - valgusallikas liigub.

Dünaamiline meetod: kaamera liigub vabalt - valgusallikas on fikseeritud.

Segameetod: kaamera ja valgusallikas on mobiilsed.

Luminograafia ilmub mõne kunstniku töös 20. sajandi esimesel poolel. Selle meetodi teerajajad olid Man Ray, Pablo Picasso, Gyon Mili jt, seejärel huvi selle vastu perioodiliselt Ameerikas, siis Euroopas - Kamil Varga, Kensi Göpel ja Jens Varneke Saksamaalt, Lichtfaktor ja LAPP PRO grupid, Ameerika Darius Twin, Finn Hanu Huhtamo jt.

4) Veealune fotograafia.

Veealune fotograafia - erinevate objektide film ja fotograafia vee all.

Reeglina toimub see spetsiaalse veekindla varustuse või veealuse kaamerakarbi või pehme veekindla korpuse abil tavalise fotoaparaadi või videokaamera abil.

Komplekt veealuseks pildistamiseks madalatel sügavustel koosneb tavaliselt kastis olevast kaamerast ja autonoomsest valgustusseadmest. Professionaalsed uuringud tehakse mitme valgustusseadme abil, millel on iseseisvad energiaallikad, seadmete paigaldamine maapinnale või veealusesse aparaati, seadmete veealune transportimine ja sidevahendid operaatorite vahel. Tänu kaugjuhtimisvahendite kasutamisele võimaldab kaasaegne varustus võimaldada pildistada sügavamal, mis on isikule kättesaamatuks.

5) Kerge graafika.

Valguse graafika (heledat graafikat) või heledat värvi (inglise keeles.) Kerge maalimine - valguse joonistamine) - fotograafia stiil, kerge joonistamise tehnika.

Valguse kaks peamist meetodit on staatilised ja dünaamilised.

Staatiline renderdamismeetod.

Monokomposiit Meetodi olemus seisneb objektiivi joonistamises erinevate külgedega. On vaja välistada kaasasoleva valgusallika liikumine. Ainult suunatud lühike valguslõik tekitab korralikult valgustatud ala ja loomulikult varju pärast seda.

Mitmekompositsioon. Joonistusobjekti liigutamine mitmes (kahes või enamas) fikseeritud asendis. Samas kaadris joonistatakse sama tähemärk või objekt erinevates positsioonides valgusega.

Dünaamilise renderdamise meetod.

Liikuv valgus Joonistamine valgusallikate (valguse mõõgad) abil mitmesugustes improvisatsioonides kosmoses. Kasutatakse taustatasapindade täitmiseks ja kerge veebi stiliseerimiseks. Näide: igasugused kirjed, kaunistused, kaunistused.

Liigutav joonis, kerge nihke (CC). See on nihutatud tasapinna valguse jälgi määramise meetod.

Hägusus Suundvalguse liikumine tekstuuride ja detailide eemaldamiseks. Meetod sobib kompositsiooni elementide silumiseks. Kui valguskiir liigub, on valguse varju piir hägune.

Moonutamine ja murdumine. Selle meetodi tulemused saavutatakse staatilise renderdamise ja peegeldavate pindade abil. Sellise pildi saamise meetodid on SS-iga väga sarnased, kuid tulemused sõltuvad peegeldunud objektide kujudest.

Kõik ülaltoodud meetodid on ainult ühe protsessi osad. Nad on nii sõltumatud kui ka omavahel suurepäraselt ühendatud.

6) Fotokollaaž

Fotokollaaž (kollaažist - kleepumine) on tehniline tehnika visuaalkunstis, mis seisneb maalide või graafikateoste loomises värvide ja tekstuuri aluste objektide ja materjalide kleepimisega.

Kollaaži kasutatakse peamiselt erinevate materjalide kombineerimisel üllatuseks, samuti töö emotsionaalse rikkuse ja teravuse huvides.

Arvatakse, et Georges Braque ja Pablo Picasso kasutasid esimest korda 1910-1912. Esimene kunstnik, kes töötas ainult kollaažitehnikas, oli Kurt Schwitters.

Fotoseansi on palju kohti ja liike. Nad kõik on hea omal moel. Niisiis, kuidas määrata järgmise pildistamise asukoht?

Stuudio või tänavapilt?

Kõigepealt peate otsustama. Fotograafil on stuudios täielik kontroll valguse ja raami ehitamise üle, kuid seda piirab ainult ruumi ruum. Tänaval saab päikeseloojangul või kõrghoone katusel hoida fotosessiooni. Need pildid võivad olla põnevad ja ebatavalised, kuid peate rohkem lootma looduslikele valgus- ja ilmastikutingimustele.

Väga huvitav. Nad kasvavad väga kiiresti, et hoida mälestusi sellest, kui väikesed lapsed olid. sa peaksid neid rohkem pildistama. Lapsed ei istu kunagi, nii et neid on väga raske pildistada. Lapse liikumise raami külge külmutamiseks on vaja arvutada õige valgus. Tõenäoliselt vajab fotograaf vanemate ja assistendi abi.

Enne piltide alustamist peate te lapsega ühendust võtma. Pärast rääkimist ja võib-olla temaga mängides hakkab laps fotograafi rohkem usaldama. Parimad fotod saadakse siis. kui laps ei märka kaamerat ja läheb lihtsalt oma tegevuse juurde.

Statistika näitab, et 90% paaridest on ainult ja pärast seda on see nii huvitav vaadata ennast ja oma hingesugulast 10-20 aasta jooksul, see on kurb, kui ainult pulmalbum ja tabelid on tehtud kelleltki sugulastelt või sugulastelt. sõbrad, ja tegelikult nii palju, mida sa mõtled: stuudio laskmine, jalutuskäik parkis või linna ümbruses, paadiga sõitmine, võite tulla palju stseene.

Lemmikloomade pildistamine

See on teema, mida saate selle kohta palju öelda. Loomade pildistamisel on peamine meeles pidada, et katiku kiirus on peaaegu kõik loomad. tulistada paremini oma lemmiklooma silmade tasemel.

See on üks populaarsemaid filmimisviise. Nimekirja saab jätkata lõputult, kuid igaüks peaks ise otsustama, mis talle huvitavam on.

Fotograafia, nagu iga teine ​​kunst, viitab erinevate žanrite olemasolule. Fotograafiažanr on kontseptsioon, mis peegeldab fotograafia kõige olulisemaid omadusi ja nähtusi ühes või teises selle ilmingus.

Iga konkreetse žanri töö nõuab fotograafilt teatud oskusi ja fotoseadmeid. Aga te ei tohiks keskenduda ainult fotograafiavarustusele, sest fotograafia on esiteks maailm ja tema enda nägemus reaalsusest. Lisaks on fotopilt kõige võimsam ja ainulaadne väljendusvahend ja suhtlusvahend, mis pakub dünaamilist arusaama, teostamise ja tõlgendamise valikut.

On palju fotograafia žanre, millest paljud on laenatud klassikalisest maalist. Allpool on kõige populaarsemad fotograafia žanrid, nimekirjas on kümme praegu populaarset fotokunsti žanrit.

Foto žanrid. Astrofotograafia

Astrofotograafia on populaarne, kuid väga kallis fotograafia žanr, milles paljud meistrid ei saa endale lubada. Žanri olemus on astronoomiliste objektide pildistamine kosmoses. Astrofotograafiat kasutatakse peamiselt teadustööks ning see on teadlaste ja astronoomide seas väga populaarne. Astrofotograafia fotograafid fotode tähed, udud, planeedid. Kõige "lihtsam" pildistamise objekt on kuu. Isegi meistrid, kellel ei ole üleloomulikku varustust, võivad kuut pildistada, sest selleks on piisavalt tugev teleobjektiiv ja superzoom.

Foto žanrid. Aerofotograafia

Aerofotograafia on veel üks populaarne, kuid mitte odav fotograafia žanr. Žanri olemus seisneb selles, et fotograaf eemaldab maapinna lindude vaatest, võimaldades vaatajatel vaadata reaalsust kõrgusest. Aerofotograafia on eriti populaarne kohtades, kus puuduvad muud transpordivahendid peale helikopteri, samuti saastealadel ja loodusõnnetustes. Praegu kasutatakse kartograafias tihti aerofotograafiat, aidates luua topograafilisi kaarte ja viia läbi keskkonnauuringuid. Üks näide uimastamisest ja informatiivsest aerofotograafiast on dokumentaalfilm „Kodu. Kuupäev planeediga ", lavastaja Luc Besson ja fotograaf Jan Arthus-Bertrand.

  Foto: Tier Ecke

  Foto: Ivan Yakovlev

  Foto: Arjan Groot

Foto žanrid. Arhitektuur

Fotokunsti üks vanimaid žanre on arhitektuurifotograafia. Ka fotograafia sünni ajal oli arhitektuurifotograafia fotograafiažanrite rakendamisel üks kõige mugavamaid. Arhitektuurifotograafia põhiülesanne on ehitise, selle kuju, suuruse ja struktuuri kujutise täpne esitamine ilma muudatuste ja joonistamiseta. Hoolimata sellest, et esmapilgul tundub see žanr olevat lihtne, on arhitektuurifotograafias palju reegleid ning fotodele on ranged nõuded. On oluline, et kapten, kes pildistaks seda või seda struktuuri, ei moonuta selle kuju ega värvi, nii et valgus oleks pehme ja valgustaks hoonet ühtlaselt.

Foto žanrid. Toidu fotograafia

Toidufotograafia on viimastel aastatel muutunud eriti populaarseks, muutes seega kaubanduslikust fotost midagi primitiivsemat ja kõigile kättesaadavamat. See on tingitud asjaolust, et paljud kasutajad ja algajad segavad tavapäraseid toiduvalikuid telefoni kallite professionaalsete reklaamijate poolt. Toidufotograafia on populaarne ja vajab väikesi oskusi ja tehnilist varustust. Peamised probleemid, millega fotograaf võib töötamise ajal kokku puutuda, on vale valgustus, esialgu mitte atraktiivne toit, kompositsioon ja palju muud. Meistri ülesanne on tulistada atraktiivne ja "maitsev" toit, sest selleks peab ta esitama kõik pildistamise tingimused ning suutma näidata tassi või toodet kõige soodsamast positsioonist.

Foto žanrid. Esteetiline foto

Esteetiline fotograafia või kuidas muidu saab seda nimetada - fotograafia bokehefektiga on uskumatult populaarne, ning soov luua loomingulise uduse taustaga pilt varem või hiljem esineb kõigil algajatel. Taustade hägustamine võimaldab rõhutada pildi huvitavaid aspekte, rõhutada aktsente ja teha tõeliselt kunstilist fotot. Kuidas luua fotol bokehefekt ja millised tegurid mõjutavad häguse tausta loomist. Inspiratsiooni jaoks on võimalik tutvuda ka väga ilusate fotograafiaga.

Foto žanrid. Portree

Üks levinumaid ja populaarsemaid fotograafia žanre on portreefotograafia. Portreefotograafia eesmärk on ilus inimeste väljapanek, võime näidata inimese meeleolu kunstilisel ja loomingulisel moel, eriti tema välimus ja väljendusvõime. Kui me räägime portrist, siis peame meeles kõigepealt mudeli näokujutist, nn rinna portree. Siiski on selliseid asju nagu vööport, kasvupilt ja 2/3 portree. Paljud professionaalsed fotograafid eelistavad luua mustvalgeid portreid, väites, et sel moel saate näidata iga inimese kõige ilmsemaid omadusi ja isiksust. Portree, arhitektuurne fotograafia on fotograafia vanimad žanrid.

Foto žanrid. Mood või stuudio laskmine

Mood ja fotograafia on fotograafia kõige kasumlikumad žanrid. kaubanduslikel alustel, mistõttu saavad professionaalsed fotograafid stuudios tehtud töö eest hea tasu. Fotograafia rõivaste ja ajakirjade kataloogidele, online-väljaanded ja reklaambrošüürid, pere- ja individuaalsed pildistamised stuudios - kõik see kehtib moe- ja stuudiofotograafia kohta. Sellises pildistamises, nagu ka teistes, on raskusi ja nüansse, mis on ilmselgelt olulised. Kõigepealt, et saada prestiižseks moefotograafiks, peate investeerima palju aega ja raha vajaliku varustuse väljaõppeks ja ostmiseks. Looge ja tehke oma fotograafia stiil.

Foto žanrid. Sport

Sportfotograafia ei ole vähem populaarne ja ostetud kui moefotograafia. Spordiürituste laskmine nõuab omakorda palju kogemusi ja teadmisi. Laskespordi jaoks on oluline kasutada kiirkaameraid ja võimsaid objektiive, suuda käsitsi kiiresti ja täpselt fokusseerida, olla mobiilsed ja mobiilsed. Spordi fotograafia on loodud peamiselt nende kaadrite edasiseks müügiks populaarsetele väljaannetele ja võrguressurssidele ning selleks, et toimetajad saaksid täpselt teie pildi osta, peate olema äri parim.

Foto žanrid. Wildlife

Metsloomade fotograafia on teine ​​uskumatult atraktiivne ja ihaldatav fotokunsti žanr. Pildistades looduslikke loomi oma loomulikus elupaigas, annavad fotograafid kõigile, olenemata nende elukohast, võimaluse vaadata loomade elu. Loodusloomade fotograafia on seotud pideva riskiga kapteni elule ja tervisele ning see ei ole mitte ainult oht loomadele ise kahjustada, vaid pidevas reisimises, looduses elades - pidev külm või kuum, niiskus või värske vee puudumine. Wildlife fotograafia nõuab praktikat ja erivahendeid. Metsloomade fotograafide parimad sõbrad on kvaliteetsed teleobjektiivid ja kiirkaamerad.

Foto žanrid. Fotoajakirjandus

Kallimad sädelevad fotod on kõige väärtuslikumad ja tähtsamad fotod. Sellised fotod on loodud lõdvestunud atmosfääris, kui mudelid ei kujuta fotograafile. Tänavaedade ajal teatab kapten huvitavatest ja ootamatutest sündmustest möödujate elust. Just sellised siirad mitte-ilukirjandused on fotograafia parim ilming, nagu kunst. Fotoajakirjandust saab paigutada nii nagu. Hoolimata asjaolust, et fotoajakirjandus on kõige populaarsem fotograafia žanr, võib ausate fotode loomiseks kuluda aastaid kestnud pidev praktika ja täiustamine. Lõppude lõpuks on selliste piltide loomise peamiseks teguriks spontaansus ja fotograafi võime jääda mudelitele tähelepanuta.

Fotoajakirjanduse isa loetakse fotoagentuuri üheks asutajaks

Tänane artikkel on kasulik kõigile algaja mudelitele. Selles artiklis räägime peamised shooting žanrid  ja nende erinevused. Näited, kirjeldused ja kõik, mida pead teadma - meie postituses.

Nagu võite arvata, räägime fotograafia žanritest. See on žanr, mis määrab tulevase laskmise suuna, selle iseloomu, detailid, riided, töötlemise. Väärib märkimist, et me räägime fotograafia liikidest, suundadest, mitte eesmärkidest. Need on erinevad asjad, sest fotograafia võib eesmärkide seisukohalt olla jagatud kataloogi laskmiseks, lookbookide pildistamiseks jne, kuid nüüd räägime kaadrite olemusest. Sellisena puudub selge žanrite nimekiri, kuid on võimalik eristada mitmeid kuulsamaid žanreid, millest iga mudel peaks olema.

Esimene ja kõige levinum on portreežanr. See on nii ainulaadne unikaalne fotograafia, mille ülesanne on näidata mudeli loomulikku ilu. Tavaliselt ei kasuta portreede rekvisiite või eredaid ebatavalisi meik, kuid sellest piisab loomuliku make-upi ja lihtsalt ilusate rõivastega, mis sobivad pildiga. Kui on vaja fotot täies kasvus teha, võite teha kasvu, kui peamine ülesanne on keskenduda keha ülemisele osale, saate poolpikkusega portree. 

Järgmine žanr on kõigile tuttav - isegi kui sa pole kunagi varem kujundanud, peate vaatama kosmeetikakatalooge, mis tähendab, et sa nägid kindlasti ilusaid tüdrukuid, kellel on korrapärased omadused, mis näitavad huulepulkade või silmade varju uusi toone. Seda žanrit mudelikeskkonnas nimetatakse „iluvõtmiseks”. Seda iseloomustavad suured näo portreed, ilus, puhas, silmatorkav meik, täiuslik juuksed. Tavaliselt on ilu laskmise eesmärk keskenduda mudeli meigile või individuaalsetele näoomadustele - huuled, silmad, põsesarnad. Erinevalt portree võtmisest tunduvad ilužanrist tulistamised palju läikivamad. 

Veel üks moeajakirjades kergesti nähtav žanr on moefotograafia. Selle fotosessiooni fookus on peamiselt tehtud riided ja aksessuaarid, samuti kujutise loomine, meelitada vaatajat oma ilu ja mõistatusega. Sellises pildis olev tüdruk kohtub tõenäoliselt harilikus elus harva, ja see on koht, kus tema atraktsioon peitub - see on kaugel ja ebareaalne, aga justkui hakkaks ajakirja kaanest välja tulema. Fotograaf ega mudel ei ole praktiliselt piiratud aksessuaaride valikuga, kerge ja meik ning moodne fotograafia on tihedalt põimunud fotograafiaga ilu või glamuuri žanris. 

Glamuuri fotoseanss on mõeldud mudeli kujutamiseks võimalikult atraktiivne vaatajale. Kasutada helgeid ja kallis ehteid, samuti luksuslikke rõivaid, täiuslikku meik. Sellist laskmist on kõige parem teha romantilises keskkonnas - selliseks pildistamiseks sobivad väga luksuslikud magamistubad fotostuudiodest, kus on baldahhiinvoodid, kamin ja nahkdiivanid.

Ja kuna oleme jõudnud glamuurse stiili lähedale, väärib märkimist veel üks väga ebatavaline žanr - prügikast - see on omamoodi "anti-glamuur". Sa nägid fotot, milles mudel oli väidetavalt just plahvatuse epitsentrist - juuksed jäid välja erinevates suundades, õudne või rebenenud riideid? See on prügikastiilis fotograafia. Sellise fotosessiooni peamine idee on väljakutse ideaalsele staatilisele iluvõtjale ja näidata dünaamikat, energiat ja ilu ebakindlalt. 

Lisaks peamistele žanritele on mitmeid väiksemaid, pigem stiile kui žanre. See on retro stiilis, pin-up (pin-up), grunge, tänava mood. Need stiilid ei ole tavaliselt jagatud eraldi rühmadeks, nii et igaüks neist võib olla seotud selle või mitme žanriga. Näiteks on grunge stiilis pildistamine selline žanr nagu alamjaotus moel ja tänavamood on samasugune, kuid linnaplokkide taustal. 

Fotograafia on väga mitmekülgne kunstivorm, mis hõlmab mitte ainult portreid, reportaaži ja maastikku. Fotograafia žanrid on erinevad, mitte ainult professionaalses, vaid ka amatööride valdkonnas.